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spectra在線膜厚測量裝置技術(shù)分析

發(fā)布時(shí)間:2023-05-30 點(diǎn)擊量:534

spectra在線膜厚測量裝置技術(shù)分析

使用小型卡爾蔡司光譜儀,根據(jù)形狀和尺寸對每種應(yīng)用進(jìn)行樣品包裝。
從薄膜和圓盤形狀到玻璃板和圓柱狀物體,如果同時(shí)使用顯微光學(xué)系統(tǒng),則可以將光線縮小到細(xì)點(diǎn),并輕松測量樣品的薄膜厚度。

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可測量樣本示例

  • 硅、氧化硅、氮化硅

  • 砷化鎵

  • 二氧化鈦

  • 光刻 膠

  • 染料膜、油膜和彩色濾膜

  • 影片

  • 涂料和粘合劑

  • 紫外光固化樹脂

  • 金屬氧化膜、介電膜

  • 聚合體

  • 空氣層

  • 光盤、中藥、光盤

以1200mm薄膜厚度測量包為例,我們將介紹Enplanner。
該系統(tǒng)可以測量長薄膜的薄膜厚度線輪廓。 安裝在執(zhí)行器上的光譜反射測量單元的最大行程為 1200 mm,可移動(dòng)并測量薄膜厚度。 圖表顯示在顯示屏上,可以保存和打印測量數(shù)據(jù)。

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產(chǎn)品規(guī)格

測量厚度范圍0.5-100um(光學(xué)厚度)實(shí)際厚度是將上述除以折射率得到的值
保障區(qū)域傳感器、急停開關(guān)、聯(lián)鎖
測量時(shí)間15分鐘,1200毫米
權(quán)力AC100V?50,60Hz?5A以下
測量位置設(shè)置在 0 到 1200 mm 之間,間距為 1 mm
寬度分辨率0.1-200mm可任意設(shè)定
寬度位置精度±0.02毫米
設(shè)置波長范圍400-1000納米
設(shè)置發(fā)光部分5倍物鏡
測量光斑直徑φ1毫米


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