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在半導體晶圓噴涂過程中,一滴不經(jīng)意的多余液滴或涂層不均勻都可能導致價值數(shù)萬元的芯片報廢。這正是像ATOMAX這樣的精密二流體霧化噴嘴成為高精度制造領(lǐng)域不可少工具的原因。
其AM6S-IST和AM12S-IST型號憑借超細霧化能力和穩(wěn)定的性能,正在精密制造領(lǐng)域掀起一場技術(shù)革命。
ATOMAX AM6S-IST和AM12S-IST噴嘴采用外部混合渦流式二流體霧化技術(shù),解決了傳統(tǒng)噴嘴在精密制造中的多項瓶頸。
傳統(tǒng)噴嘴在處理高粘度液體時往往面臨堵塞風險,而ATOMAX通過直通式流道設(shè)計和超大注射直徑,將堵塞可能性降至低。
其液體流道直徑比傳統(tǒng)噴嘴大10-200倍,即使是含有固體顆粒的漿料或高粘度液體也能穩(wěn)定霧化。
這一創(chuàng)新結(jié)構(gòu)使AM6S-IST和AM12S-IST能夠產(chǎn)生平均粒徑約5μm的超細液滴,且粒徑分布極為均勻,為高精度涂層提供了基礎(chǔ)保障。
在半導體領(lǐng)域,AM6和AM12系列噴嘴應用于晶圓制造的多道工序。
在晶圓預清洗環(huán)節(jié),它們可將去離子水或弱堿性清洗液霧化成超細液滴,有效去除0.1μm以上的顆粒污染物,且不損傷晶圓表面。
測試表明,采用這些噴嘴的預清洗工藝可使晶圓表面顆粒污染物減少85%以上。
在光刻膠涂覆過程中,AM6S-IST和AM12S-IST通過精確控制光刻膠霧化,可在晶圓表面形成納米級均勻度的薄膜,厚度偏差控制在±1%以內(nèi)。
在醫(yī)療領(lǐng)域,這些噴嘴用于藥品包衣、醫(yī)療器械表面處理和無菌環(huán)境消毒。
其超細霧化能力使藥液能夠均勻覆蓋在藥片表面,形成一致性高的包衣層,對于控制藥物釋放速率至關(guān)重要。
在汽車零部件和光學器件制造中,AM6S-IST和AM12S-IST實現(xiàn)了高性能表面涂層的精密噴涂。
無論是汽車零部件的高反射涂層還是光學鏡片的防反射涂層,這些噴嘴都能提供均勻細膩的噴涂效果。
與傳統(tǒng)噴嘴相比,AM6S-IST和AM12S-IST可減少15%-70%的壓縮氣體消耗。
其低壓高效運行特性進一步降低了能耗,同時憑借自吸功能,在處理低粘度液體時甚至無需泵送設(shè)備。
對于使用高粘度液體或漿料的企業(yè)來說,噴嘴堵塞是常見的生產(chǎn)中斷原因。ATOMAX噴嘴的直通式結(jié)構(gòu)和超大孔徑設(shè)計,解決了這一難題。
一家使用傳統(tǒng)噴嘴的企業(yè)曾需要每8小時停機清洗一次,換用ATOMAX后,維護間隔延長至72小時。
為適應不同工作環(huán)境,AM6S-IST和AM12S-IST提供SUS316L不銹鋼、PEEK和PTFE等多種材質(zhì)選項。
在強腐蝕性的電鍍液霧化環(huán)境中,可選擇耐化學腐蝕的PTFE材質(zhì);而在需要高機械強度的場合,則可選用SUS316L不銹鋼材質(zhì)。
根據(jù)應用場景的不同,在AM6S-IST和AM12S-IST之間做出合適選擇至關(guān)重要:
AM6S-IST更適合微量噴涂(低于1L/h)的場景,如實驗室微量試劑噴涂、精密儀器防腐蝕等
AM12S-IST則適用于需要更寬噴霧覆蓋但仍保持高精度的場合
對于高粘度/含固液體(如陶瓷漿料、3D打印材料),可優(yōu)先考慮ATOMAX系列。
而在強腐蝕環(huán)境中(如電鍍、酸洗),應選擇特殊材質(zhì)版本。
在空間受限的應用中,AM6S-IST的超緊湊設(shè)計(內(nèi)徑<10mm)顯示出明顯優(yōu)勢。
盡管AM6S-IST和AM12S-IST性能,但也存在一定的局限性:
價格較高,在預算敏感型項目中可能不如中國本土品牌有競爭力
在超大規(guī)模工業(yè)噴涂中,可選型號相對有限
對氣體壓力穩(wěn)定性要求較高,供氣波動可能導致粒徑分布不均
特殊材質(zhì)噴嘴(如PEEK/PTFE)的機械強度較低,在高磨損環(huán)境中壽命可能較短
針對這些局限,用戶可在不需要超細霧化的常規(guī)應用中選擇性價比更高的替代品牌,而在關(guān)鍵的高精度工序中保留ATOMAX噴嘴。
隨著半導體技術(shù)不斷向更小制程、更高集成度發(fā)展,以及醫(yī)療設(shè)備表面處理要求的不斷提高,對精密霧化技術(shù)的需求將與日俱增。
AM6S-IST和AM12S-IST這類高精度霧化噴嘴,已成為高品質(zhì)制造領(lǐng)域不可少的核心組件。